发明名称 透明导电膜及其制造方法;TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
摘要 本发明涉及一种透明导电膜及其制造方法,该透明导电膜(10)具有透明基体(12)和形成于该透明基体(12)上的金属配线部(14),构成金属配线部(14)的电极部(18)的金属细线(24)具有满足Ra 2 /Sm>0.01μm的表面形状,且金属体积率为35%以上。需要说明的是,Ra表示算术平均粗糙度,为表面粗糙度测定部位的金属配线的厚度以下,单位为μm。Sm为凹凸的平均间隔,为0.01μm以上。
申请公布号 TW201445586 申请公布日期 2014.12.01
申请号 TW103117821 申请日期 2014.05.21
申请人 富士软片股份有限公司 发明人 片桐健介;田尻新;长谷明彦
分类号 H01B5/14(2006.01);H01B13/00(2006.01);B32B15/08(2006.01) 主分类号 H01B5/14(2006.01)
代理机构 代理人 <name>陈丰裕</name>
主权项
地址 日本