| 摘要 |
提供一种成膜装置，其可以实现在成膜对象物的成膜平面之膜质分布的均匀化。本发明的成膜装置，系在真空腔室(10)内藉由电浆束(P)对成膜材料(Ma)进行加热而使其蒸发，并且使成膜材料的蒸发粒子(Mb)附着于成膜对象物(11)；其具备：电浆源(7)，在真空腔室(10)内生成电浆束；主炉缸(17)，其作为主阳极，被填充有成为蒸发源之成膜材料，并且向成膜材料导入前述电浆束或者被导入电浆束；环炉缸(6)，其作为辅助阳极，配置于主炉缸的周围，并且引导电浆束；及蒸发方向调整部(21)，以每隔规定时间就改变从蒸发源蒸发之蒸发粒子的方向。 |
