图案形成方法、感光化射线性或感放射线性树脂组成物及抗蚀剂膜、以及使用它们的电子元件的制造方法及电子元件;PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME AND ELECTRONIC DEVICE

摘要

本发明提供一种极其高水准地同时满足高感度、高解析度(高解像力等)、膜薄化减少性能、EL(曝光宽容度)、及局部的图案尺寸的均一性(Local-CDU)的图案形成方法、感光化射线性或感放射线性树脂组成物、及抗蚀剂膜、以及使用它们的电子元件的制造方法及电子元件。本发明的图案形成方法包括：(1)使用感光化射线性或感放射线性树脂组成物来形成膜、(2)利用光化射线或放射线对上述膜进行曝光、以及(3)使用包含有机溶剂的显影液对上述经曝光的膜进行显影，且上述感光化射线性或感放射线性树脂组成物含有(A)树脂与(B)溶剂，上述(A)树脂具有具备藉由光化射线或放射线的照射而分解并产生酸的结构部位的重复单元(R)，上述显影液含有与曝光后的树脂(A)中所含有的极性基形成选自离子键结、氢键结、化学键结及偶极相互作用中的至少1种相互作用的添加剂。