发明名称 板厚控制
摘要 本发明揭露一种用于形成板的方法及设备。将熔化物冷却,且在所述熔化物上形成板。此板具有第一厚度。随后使用例如加热器或熔化物使所述板自第一厚度变薄至第二厚度。所述冷却可经组态以允许溶质被截留于板之一区中,且可使此特定板变薄且移除溶质。所述熔化物可为例如矽、矽锗、镓或氮化镓。
申请公布号 TWI463043 申请公布日期 2014.12.01
申请号 TW098127282 申请日期 2009.08.13
申请人 瓦里安半导体设备公司 美国 发明人 凯勒曼 彼德L;卡尔森 菲德梨克;辛克莱 法兰克
分类号 C30B11/04;C30B35/00 主分类号 C30B11/04
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 一种形成板之方法,包括:将材料之熔化物冷却;在所述熔化物的表面形成所述材料之板,所述板具有第一厚度;以及在所述形成之后,使所述板自所述第一厚度变薄至第二厚度,所述第二厚度小于所述第一厚度。
地址 美国