用于压印微影之乙烯基醚抗蚀配方的稳定剂与压印制程

摘要

本发明揭示适用于紫外线压印微影应用之涂料组合物，其包含：至少一种乙烯基醚交联剂，其具有至少两个乙烯基醚基团；至少一种稀释剂，其包括单官能基乙烯基醚化合物；至少一种光酸产生剂(photoacid generator)，其溶于以下选定的一或两者：该至少一种单官能基乙烯基醚化合物及该至少一种具有该至少两个乙烯基醚基团之乙烯基醚交联剂；以及至少一种稳定剂，其包括酯基化合物，该酯基化合物在一酯基位置或一α及多个酯基位置上以取代基将其选择性地取代。本发明亦揭示压印制程。

主权项

一种涂料组合物，其包括：至少一种乙烯基醚交联剂，其具有至少两个乙烯基醚基团；至少一种稀释剂，其包括单官能基乙烯基醚化合物；至少一种光酸产生剂，其溶于以下选定的一或两者：i)该单官能基乙烯基醚化合物及ii)该至少一种乙烯基醚交联剂；及至少一种稳定剂，其包括酯基化合物，该酯基化合物在：i)酯基位置或ii)α及酯基位置经取代基选择性地取代，其中该酯基化合物具有下式：其中R1表示在该α位置处之该取代基，及R2表示在该酯基位置处之该取代基，其中R1为经取代或非经取代之烃基取代基，该经取代或非经取代之烃基取代基系选自由以下各基团所组成之群组：直链烷基、支链烷基、环烷基、双环烷基、氟化直链烷基、氟化支链烷基、氟化环烷基、芳基、芳烷基、烷芳基、烯基、环烯基、二氢哌喃基、二氢呋喃基、烷烯基、烯烷基、炔基、烷炔基、炔烷基、三氟甲基、三氟乙基、三氟丙基、氰基丙基、参三烷基矽烷基、参-三芳基矽烷基、参-三烷芳基矽烷基、参-三芳烷基矽烷基、参-三烯基矽烷基、参-三氟烷基、参-三炔基矽烷基、参-三氟甲基矽烷基、参-三氟乙基矽烷基、参-三氟丙基矽烷基及参-氰基丙基矽烷基；并且R2系选自由烃基取代基所组成之群组，该烃基取代基选自由以下各基团所组成之群组：直链烷基、直链烷氧基、直链烷氧基羰甲基、支链烷基、支链烷氧基、支链烷氧基羰甲基、环烷基、环烷氧基、双环烷氧基、氟化直链烷基、氟化支链烷基、氟化环烷基、芳基、芳烷基、烷芳基、烯基、环烯基、二氢哌喃基、二氢呋喃基、烷烯基、烯烷基、炔基、烷炔基、炔烷基、三氟甲基、三氟乙基、三氟丙基、氰基丙基、参三烷基矽烷基、参-三芳基矽烷基、参-三烷芳基矽烷基、参-三芳烷基矽烷基、参-三烯基矽烷基、参-三氟烷基、参-三炔基矽烷基、参-三氟甲基矽烷基、参-三氟乙基矽烷基、参-三氟丙基矽烷基及参-氰基丙基矽烷基。