对焦位置调整方法、对焦位置调整装置、及雷射加工装置

摘要

本发明提供一种可适当地调整在表面存在凹凸构造之基板中设置于凹部之界道之对焦状态之方法。对遮光图案将以界道之一格子点为中心之状区域作为投影范围且以如下方式进行投影：使具有使复数个单位遮光区域沿一方向等间隔排列而成之第1遮光图案及与其正交之第2遮光图案的状之遮光图案相对于光轴倾斜配置，第1遮光图案之复数个单位遮光区域之各自之成像位置成为不同之高度位置，第2遮光图案于一高度位置成像。基于使格子点与图像吻合而对包括投影范围之区域进行摄像而得之摄像图像，特定第1遮光图案之对比度成为最大之位置，基于最大对比度位置与格子点位置之距离调整对焦机构之对焦位置，藉此使对焦对象区域成为对焦状态。

主权项

一种对焦位置调整方法，其特征在于：其系以于观察对象物中格子状地存在之对焦对象区域成为对焦状态之方式，调整观察光学系统中具备之对焦机构之对焦位置，且包括：保持步骤，其使上述观察对象物保持于特定之保持机构；图案投影步骤，其对具有第1遮光图案及第2遮光图案之十字状之遮光图案，将以上述对焦对象区域之一格子点为中心的十字状区域作为投影范围进行投影，上述第1遮光图案系使复数个单位遮光区域沿第1方向等间隔排列而成，上述第2遮光图案系设置于与上述第1方向正交之第2方向上；摄像步骤，其于已投影上述遮光图案之状态下，使上述一格子点与图像中央吻合而藉由上述观察光学系统中具备之摄像机构对包含上述投影范围之区域进行摄像；最大对比度位置特定步骤，其基于上述摄像图像而特定上述第1遮光图案之对比度成为最大之最大对比度位置；及对焦位置调整步骤，其调整上述对焦机构之对焦位置；且于上述图案投影步骤中，以如下方式将上述遮光图案投影至上述十字状区域，即，使上述遮光图案相对于上述观察光学系统之光轴倾斜而配置，上述第1遮光图案之复数个单位遮光区域之各自之成像位置成为不同之高度位置，且上述第2遮光图案于一高度位置成像；上述对焦位置调整步骤选择性地进行：第1对焦位置调整步骤，其于在上述最大对比度位置特定步骤中可特定上述最大对比度位置之情形时，基于上述最大对比度位置与上述一格子点之位置之距离而调整上述对焦机构之对焦位置，藉此使上述对焦对象区域成为对焦状态；及第2对焦位置调整步骤，其于在上述最大对比度位置特定步骤中无法特定上述最大对比度位置之情形时，使上述摄像机构对改变上述对焦机构相对于上述观察对象物之配置距离的复数个摄像图像进行摄像，基于所获得之上述复数个摄像图像而特定相对于上述对焦机构之配置距离之上述第2遮光图案之对比度变化，藉由将上述对比度变化之极大位置决定为上述对焦对象区域成为对焦状态之上述对焦机构之配置位置，且使上述对焦机构之对焦位置与上述极大位置一致，而使上述对焦对象区域成为对焦状态。