化合物、含有该化合物的共聚合物及含有该共聚合物的抗蚀剂保护膜组成物

摘要

一种由下式1表示之化合物、包含由下式1-a表示之重复单元的共聚合物及含有该共聚合物之抗蚀剂保护膜组成物。当使用抗蚀剂保护膜组成物时，获得一种抗蚀剂保护膜，其具有足够透光率，不易与抗蚀剂膜互混，具有适当亲水或疏水特性，未展现图案形状劣化现象，易溶解于硷性显影剂溶液中，且可减少浸渍或乾式曝光制程中各种缺陷的出现。;在式1及式1-a中，R11、R21及R22各自独立表示氢原子、卤素原子或类似原子；R1表示烷基、杂烷基或类似基团；R2表示氢原子或烷基；且Q1及Q2各自独立表示由氢原子及卤素原子所构成之族群中选出的任一者。

主权项

一种抗蚀剂保护膜组成物，其包含共聚合物，其中所述共聚合物含有由下式1-a表示之重复单元；以及由下式4-a、式5-a、式7-a以及其组合所构成之族群中选出的任一者所表示之重复单元：其中R11、R21以及R22各自独立地表示由氢原子、卤素原子、具有1至8个碳原子之烷基以及具有1至5个碳原子之卤化烷基所构成之族群中选出的任一者；R1表示由烷基、杂烷基、芳基、杂芳基、环烷基、杂环烷基、烷基醚基以及烷基羰基所构成之族群中选出的任一者；R2表示氢原子；且Q1以及Q2各自独立地表示卤素原子，