发明名称 使用共形氮化物形成自上而下坚固之矽奈米结构的方法及其结构
摘要 一种奈米产物与其制造方法具有一晶圆,晶圆具有一埋藏氧化物(Buried Oxide,BOX)上层,其中形成有一井部,且一奈米线之端部系位于该BOX层上而形成横越(spans)该井部之一梁体。在该BOX层之上表面上形成有一遮罩涂层,而于该梁体之一部(center part)上方留下一未涂布窗部(window),也于该梁体部之各端部与该井部之一侧壁间的梁体中间(intermediate)端部周围形成一遮罩涂层。透过该窗部而施加氧以薄化该梁体之部,同时使井部上方的接线(wire)中间端部变厚且具有一般为弧形之形状。在氧化之前可于接线与BOX层上之遮罩上放置一热氧化物涂层。
申请公布号 TWI463565 申请公布日期 2014.12.01
申请号 TW099114782 申请日期 2010.05.10
申请人 万国商业机器公司 美国 发明人 巴维兹 泰孟;西卡瑞克 利迪加;思雷特 杰佛瑞W
分类号 H01L21/31;H01L29/06;H01L21/336;H01L29/78 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人 李宗德 台北市大安区敦化南路2段218号5楼A区
主权项 一种制造一奈米线产物之方法,包含:提供一晶圆,该晶圆具有一埋藏氧化物(BOX)上层,其中形成有一井部,该晶圆更具有一奈米线,该奈米线之端部系置于(resting on)该BOX层上,使得该奈米线形成横越该井部之一梁体;以及于该BOX层的上表面上形成一遮罩涂层而在该井部上方之该梁体的一中央部上保留一未涂布窗部,并且也在该梁体中央部之各端部与该井部之一侧壁间的该梁体中间端部周围形成一遮罩涂层。
地址 美国