发明名称 |
过氧化氢之制造方法 |
摘要 |
本发明之课题系提供一种在藉由蒽醌法制造过氧化氢时之杂质含量少的过氧化氢之制造方法。;本发明系提供一种过氧化氢之制造方法,其特征为:使用具有烷基取代基之蒽醌与具有烷基取代基之四氢蒽醌之莫耳比为2:1至8:1的混合物作为工作溶液中之蒽醌类;在还原步骤中,将该工作溶液中之该四氢蒽醌之全量及该蒽醌之一部分或全量予以还原,并维持在还原步骤后之氧化步骤前之工作溶液中之具有烷基取代基之蒽氢醌之含量较具有烷基取代基之四氢蒽氢醌之含量多的步骤;并且乙基蒽醌与乙基四氢蒽醌两者之合计量系占前述工作溶液中全蒽醌类之10至45莫耳%之比例而用作前述工作溶液中之蒽醌类。 |
申请公布号 |
TWI462874 |
申请公布日期 |
2014.12.01 |
申请号 |
TW096121288 |
申请日期 |
2007.06.13 |
申请人 |
三菱瓦斯化学股份有限公司 日本 |
发明人 |
堺谷久;井浦克弘;萩原猪佐夫;长谷川浩;松田久 |
分类号 |
C01B15/023 |
主分类号 |
C01B15/023 |
代理机构 |
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代理人 |
洪武雄 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼;陈昭诚 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼 |
主权项 |
一种过氧化氢之制造方法,其特征为:于含有蒽醌类作为反应介质之工作溶液,藉由交互地还原.氧化而制造过氧化氢的方法中,使用具有烷基取代基之蒽醌与具有烷基取代基之四氢蒽醌之莫耳比为2:1至8:1的混合物作为工作溶液中之蒽醌类;在还原步骤中,将该工作溶液中之该四氢蒽醌之全量及该蒽醌之一部分或全量予以还原,并在还原步骤后于氧化步骤前将工作溶液中具有烷基取代基之蒽氢醌之含量维持在较具有烷基取代基之四氢蒽氢醌之含量多的步骤;并将乙基蒽醌与乙基四氢蒽醌两者之合计量系前述工作溶液中全蒽醌类之10至40莫耳%之比例使用作为前述工作溶液中之蒽醌类。 |
地址 |
日本 |