发明名称 高分子化合物、光阻材料及图案形成方法
摘要 本发明提供通式(1A)或(1B)表示之单体。;(1A) (1B);(R1表示氢原子、甲基、或三氟甲基;R2表示碳数3~15之环状的1价烃基,R3、R4表示碳数1~15之直链状、分支状或环状的1价烃基;R5表示碳数1~15之直链状、分支状或环状的1价烃基;X1、X2表示单键或碳数1~4之直链状或分支状的2价烃基;k1表示1~3之整数;Z1表示与其所键结之碳原子一起形成之碳数5~15之脂环基)。;本发明之光阻膜,不仅于知之利用硷显影形成正型图案,于有机溶剂显影之正负反转之图像形成,也具备未曝光部分之溶解性高、曝光部分之溶解性低、溶解对比度高的特征。
申请公布号 TWI462900 申请公布日期 2014.12.01
申请号 TW102104648 申请日期 2013.02.06
申请人 信越化学工业股份有限公司 日本 发明人 提箸正义;畠山润;长谷川幸士;片山和弘
分类号 C07C69/54;C08F20/28;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/32;H01L21/027 主分类号 C07C69/54
代理机构 代理人 周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼
主权项 一种高分子化合物,其系选自于由下列式(i)至(xiii)构成之群组;
地址 日本