半导体制造装置、半导体制造方法、及半导体制造装置之洁净方法

摘要

于半导体装置之制造装置，具备：反应室，用于进行晶圆之成膜处理；制程气体供给机构，设于反应室之上部，用于将制程气体导入反应室内部；气体排出机构，设于反应室之下部，用于由反应室排出气体；支撑构件，用于保持晶圆；洁净气体供给机构，设于支撑构件之外周，在较支撑构件之上端之更下方，朝外周方向喷出洁净气体；加热器，用于加热晶圆；及旋转驱动机构，用于旋转晶圆。

主权项

一种半导体装置之制造装置，具备：反应室，用于进行晶圆之成膜处理；制程气体供给机构，设于上述反应室之上部，用于将制程气体导入至上述反应室内部；气体排出机构，设于上述反应室之下部，用于由上述反应室排出气体；支撑构件，用于保持上述晶圆；洁净气体供给机构，设于上述支撑构件之外周，且在较上述支撑构件之上端之更下方的位置，朝上述反应室的内壁的方向喷出洁净气体；加热器，用于加热上述晶圆；及旋转驱动机构，用于旋转上述晶圆。