| 发明名称 |
浸渍曝光用正型光阻组成物及图案形成方法 |
| 摘要 |
一种浸渍曝光用正型光阻组成物包括以下(A)至(D)：(A)一种因酸之作用可分解而增加在硷显影剂中溶解度的树脂；(B)一种在以光化射线或辐射照射时可产生酸之化合物；(C)一种具有氟原子与矽原子至少之一的树脂；及(D)一种含至少一种选自由如说明书所定义之下式(S1)至(S3)任一表示之溶剂的溶剂之混合溶剂，其中至少一种溶剂之总量按混合溶剂(D)之全部溶剂计为3至20质量%。;(S1) (S2) (S3) |
| 申请公布号 |
TWI463260 |
申请公布日期 |
2014.12.01 |
| 申请号 |
TW098132454 |
申请日期 |
2009.09.25 |
| 申请人 |
富士软片股份有限公司 日本 |
发明人 |
山本庆;三枝浩 |
| 分类号 |
G03F7/039;G03F7/004;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/039 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼 |
| 主权项 |
一种浸渍曝光用正型光阻组成物，其包含以下(A)至(D)：(A)一种因酸之作用可分解而增加在硷显影剂中溶解度的树脂；(B)一种在以光化射线或辐射照射时可产生酸之化合物；(C)一种具有氟原子与矽原子至少之一的树脂；及(D)一种含至少一种选自由下式(S1)至(S3)任一表示之溶剂所组成的群组的溶剂之混合溶剂，其中至少一种溶剂之总量按混合溶剂(D)之全部溶剂计为3至20质量%：其中R1至R7各独立地表示烷基、环烷基或芳基；及R1与R2、R3与R4、及R6与R7各可彼此组合形成环；其中该树脂(A)含至少一种由式(1)表示之重复单元：其中在式(1)中，R1表示氢原子、甲基、或由-CH2-R9表示之基；R9表示单价有机基；R2表示烷基或环烷基；及R表示与碳原子一起形成单环脂环结构所需之原子基，及该单环脂环结构具有5或6之碳数。 |
| 地址 |
日本 |
