发明名称 |
利用电浆布植之磁畴图案化 |
摘要 |
一种用于在基材上一磁性薄膜中定义多个磁畴之方法,包含下列步骤:将该磁性薄膜涂覆以一阻剂;图案化该阻剂,其中该磁性薄膜的多个区域系实质未被覆盖住;以及将该磁性薄膜暴露于一电浆,其中电浆离子穿透该磁性薄膜之该些实质未覆盖的区域,使得该些实质未覆盖的区域变为非磁性。一种用于此制程之工具,包含:一真空腔室,其维持在地线电位;一气体入口阀件,其系配置以将受控的气体量引入腔室;一碟盘承载装置,其系配置以(1)设置在该腔室内、(2)固持多个碟盘,使该些碟盘相隔,其中各碟盘之两侧面皆暴露出、及(3)电气接触于该些碟盘;以及一射频讯号产生器,其电气耦接到该碟盘承载装置与该腔室,藉此可以在该腔室中点燃一电浆,并且该些碟盘在两侧面上皆均匀地暴露于电浆离子。此制程可以用来制造记忆体元件,包括磁阻式随机存取记忆体元件。 |
申请公布号 |
TWI463509 |
申请公布日期 |
2014.12.01 |
申请号 |
TW098104532 |
申请日期 |
2009.02.12 |
申请人 |
应用材料股份有限公司 美国 |
发明人 |
维哈佛贝可史帝文;福德马吉德A;克里希那奈提M;那拉马苏欧卡蓝;凡卡特珊马哈林詹;吉力哈卡梅须 |
分类号 |
H01F41/30;G11B5/00;G11C11/14 |
主分类号 |
H01F41/30 |
代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼 |
主权项 |
一种用于在基材上一磁性薄膜中定义多个磁畴之方法,该方法包含下列步骤:将该磁性薄膜涂覆以一阻剂;图案化该阻剂,其中该磁性薄膜的多个区域系实质未被覆盖住;以及将该磁性薄膜暴露于一电浆,其中电浆离子穿透该磁性薄膜之该些实质未覆盖的区域,使得该些实质未覆盖的区域变为非磁性,其中各磁畴为一不同之磁性记忆体构件的一部分。 |
地址 |
美国 |