| 发明名称 |
积层体、障壁膜、及彼等之制造方法 |
| 摘要 |
本发明之积层体系具备：具表面之基材、形成于前述基材之前述表面上之至少一部分之含有具OH基之有机高分子之膜状或薄膜状之底涂层、以前驱物作为原料所形成之以被覆前述底涂层之露出面上之方式形成为膜状之原子层沉积层，而前述前驱物之至少一部分，系键结于前述有机高分子之前述OH基。 |
| 申请公布号 |
TW201444697 |
申请公布日期 |
2014.12.01 |
| 申请号 |
TW103111165 |
申请日期 |
2014.03.26 |
| 申请人 |
凸版印刷股份有限公司 |
发明人 |
小山浩志;佐藤尽;加纳满 |
| 分类号 |
B32B9/04(2006.01);B32B27/30(2006.01);B32B7/10(2006.01);B32B37/14(2006.01) |
主分类号 |
B32B9/04(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
<name>丁国隆</name><name>黄政诚</name> |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
