微影装置;LITHOGRAPHIC APPARATUS

摘要

本发明揭示一种微影装置，该微影装置包括一基板台位置量测系统及一投影系统位置量测系统，该基板台位置量测系统及该投影系统位置量测系统分别用以量测基板台及投影系统之一位置。该基板台位置量测系统包括安装于该基板台上之一基板台参考元件，及一第一感测器头。该基板台参考元件在实质上平行于基板台上之一基板之固持平面的一量测平面中延伸。该固持平面配置于该量测平面之一个侧处，且该第一感测器头配置于该量测平面之一对置侧处。该投影系统位置量测系统包括一或多个投影系统参考元件及一感测器总成。该感测器头及该感测器总成或关联投影系统量测元件安装于一感测器框架上。