发明名称 ブロックコポリマー及び該ブロックコポリマーを用いたリソグラフィーパターニング
摘要 ブロックコポリマー、及び該ブロックコポリマーを使用して有機薄膜のパターンを作製する方法。ブロックコポリマーはフッ素化ブロックを含む。ブロックコポリマーの薄膜は整列させることができるマイクロドメインを有する。結果として、入射する深紫外線又は電子ビーム照射線のパターンよりも小さい寸法を有する有機薄膜のパターンを形成することができる。例えば、ブロックコポリマーは、リソグラフィー、ろ過及びテンプレート作成の用途に使用できる。
申请公布号 JP2014531615(A) 申请公布日期 2014.11.27
申请号 JP20140529828 申请日期 2012.09.06
申请人 コーネル ユニバーシティー 发明人 オーバー クリストファー ケー.;前田 里奈;ユー ナムホ;早川 晃鏡
分类号 G03F7/38;C08F293/00;G03F7/038;G03F7/039;H01L21/027 主分类号 G03F7/38
代理机构 代理人
主权项
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