发明名称 |
ブロックコポリマー及び該ブロックコポリマーを用いたリソグラフィーパターニング |
摘要 |
ブロックコポリマー、及び該ブロックコポリマーを使用して有機薄膜のパターンを作製する方法。ブロックコポリマーはフッ素化ブロックを含む。ブロックコポリマーの薄膜は整列させることができるマイクロドメインを有する。結果として、入射する深紫外線又は電子ビーム照射線のパターンよりも小さい寸法を有する有機薄膜のパターンを形成することができる。例えば、ブロックコポリマーは、リソグラフィー、ろ過及びテンプレート作成の用途に使用できる。 |
申请公布号 |
JP2014531615(A) |
申请公布日期 |
2014.11.27 |
申请号 |
JP20140529828 |
申请日期 |
2012.09.06 |
申请人 |
コーネル ユニバーシティー |
发明人 |
オーバー クリストファー ケー.;前田 里奈;ユー ナムホ;早川 晃鏡 |
分类号 |
G03F7/38;C08F293/00;G03F7/038;G03F7/039;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/38 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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