デバイス上にコーティングを堆積させる改善された堆積法

摘要

本発明は、デバイス上にコーティングを堆積するのに適した堆積法を記載している。この方法は、微小電気機械構造（ＭＥＭＳ）上に自己組織化単分子膜（ＳＡＭ）のコーティングを堆積するのに特に適している。この方法は、中にデバイスが配置される処理チャンバ内に堆積蒸気を形成するためにキャリアガスを利用しており、この堆積蒸気は制御された量の蒸気の前駆体物質と蒸気の反応体物質とを含んでいる。記載の手法を利用することにより、反応体物質と前駆体物質の容積比が当該技術分野において既に利用されている比率よりも著しく高い場合であっても、デバイスの粒子汚染による問題の影響を回避することができる。蒸気の前駆体物質は、水を含む関連する蒸気の反応体物質を用いてＭＥＭＳに反スティクションコーティングを提供する種類の物質とすることができる。【選択図】図１