一种测量ITO玻璃基板上光刻胶厚度的方法

摘要

一种测量ITO玻璃基板上光刻胶厚度的方法，属于测量方法领域。包括如下步骤：将涂胶后的ITO玻璃基板经过烘干固化，并检验表面无缺陷后，用厚度仪测量涂胶厚度，测量精度达到1nm，每片基板测量15个均匀分布的点，用公式δ=（Tmax-Tmin）/（Tmax+Tmin）×100%计算厚度不均匀性。本发明所述的一种测量ITO玻璃基板上光刻胶厚度的方法，是根据产品性能要求和实际工艺条件来确定的。光刻胶的厚度是影响光刻质量和效果的关键因素，厚度小了，光刻分辨率高，但是抗刻蚀能力差；厚度大了，抗刻蚀能力强，但是分辨率低，这是一对矛盾，本方法可以很好的确定所涂光刻胶的厚度，且操作简单易于推广。

主权项

一种测量ITO玻璃基板上光刻胶厚度的方法，其特征在于包括如下步骤：首先将涂胶后的ITO玻璃基板经过烘干固化，并检验表面无缺陷后，接着用厚度仪测量涂胶厚度，在每片基板测量多个均匀分布的点，之后用公式δ=（Tmax‑Tmin）/（Tmax+Tmin）×100%计算厚度不均匀性。