发明名称 黑色聚酰亚胺膜
摘要 提供了一种黑色聚酰亚胺膜,包括:(a)聚酰亚胺树脂;(b)3.0wt%至7.5wt%的炭黑,其中所述炭黑具有1.5wt%或更少的高温挥发性组分并且其表面没有经过氧化处理;以及(c)0.5wt%至1.5wt%的屏蔽剂。所述聚酰亚胺树脂通过酰亚胺化由二酐和二胺共聚制备的聚酰胺酸来产生。所述膜具有在可见光范围内的1.0%或更小的光透射率,60%或更小的光泽度,80%或更大的伸长率,10<sup>15</sup>Ω或更大的表面电阻率,1/100m<sup>2</sup>或更小的针孔发生率。所述膜具有优异的光泽度、屏蔽性和介电性能以及降低的针孔发生率。
申请公布号 CN104169330A 申请公布日期 2014.11.26
申请号 CN201280066713.7 申请日期 2012.09.07
申请人 思科隆PI株式会社 发明人 李吉男;金圣原
分类号 C08G73/10(2006.01)I;C08L79/08(2006.01)I;C08K3/22(2006.01)I 主分类号 C08G73/10(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 顾晋伟;彭鲲鹏
主权项 一种黑色聚酰亚胺膜,包括:(a)聚酰亚胺树脂;(b)3.0wt%至7.5wt%的炭黑,其中所述炭黑具有1.5wt%或更少的高温挥发性组分并且所述炭黑表面没有经过氧化处理;以及(c)0.5wt%至1.5wt%的屏蔽剂;其中所述聚酰亚胺树脂通过酰亚胺化由二酐和二胺共聚制备的聚酰胺酸来产生,并且所述膜具有在可见光范围内的1.0%或更小的光透射率,60%或更小的光泽度,80%或更大的伸长率,10<sup>15</sup>Ω或更高的表面电阻率,以及1/100m<sup>2</sup>或更小的针孔发生率。
地址 韩国忠清北道镇川郡