发明名称 |
双面消影氧化铟锡磁控溅射镀膜生产设备 |
摘要 |
本实用新型提供了一种工作效率高、设计合理的双面消影氧化铟锡磁控溅射镀膜生产设备,包括机架,所述机架上依次设置有进口真空腔体、进口缓冲真空腔体、进口过渡腔体、工艺真空腔体、出口真空腔体、出口缓冲真空腔体和出口过渡腔体;所述机架上、贯穿上述腔体设置有触摸屏基片输送带;所述工艺真空腔体为9个,所述每个工艺真空腔体都布置有2对阴极,所述9个工艺真空腔体可布置18对阳极,所述18对阳极中,含有18对Nb2Ox阳极;或1到8对SiOx阳极;或1到6对Ito阳极;所述进口真空腔体内配备有1到2组低真空抽气系统;所述进口缓冲真空腔体和出口缓冲真空腔体内配备1到2组高真空抽气系统;所述工艺真空腔体内配备2到3组维持高真空抽气系统。本生产设备结构合理,功能先进,工作效率高,有利于推广使用。 |
申请公布号 |
CN203960320U |
申请公布日期 |
2014.11.26 |
申请号 |
CN201420224365.8 |
申请日期 |
2014.05.05 |
申请人 |
红安华州光电科技有限公司 |
发明人 |
郭爱云 |
分类号 |
C23C14/35(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/35(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
双面消影氧化铟锡磁控溅射镀膜生产设备,其特征在于,包括机架,所述机架上依次设置有进口真空腔体、进口缓冲真空腔体、进口过渡腔体、工艺真空腔体、出口真空腔体、出口缓冲真空腔体和出口过渡腔体;所述机架上、贯穿上述腔体设置有触摸屏基片输送带;所述工艺真空腔体为9个,所述每个工艺真空腔体都布置有2对阴极,所述9个工艺真空腔体可布置18对阳极,所述18对阳极中,含有18对Nb2Ox阳极;或1到8对SiOx阳极;或1到6对Ito阳极;所述进口真空腔体内配备有1到2组低真空抽气系统;所述进口缓冲真空腔体和出口缓冲真空腔体内配备1到2组高真空抽气系统;所述工艺真空腔体内配备2到3组维持高真空抽气系统。 |
地址 |
438400 湖北省红安县经济开发区新型产业园 |