用于等离子体处理工具原位工艺监控和控制的方法和装置

摘要

本发明提供了用于在方案的执行过程中实施自动的原位工艺控制模式的装置。所述装置包括被配置为至少在方案执行过程中收集传感器数据的第一集合以便于监控设定点的控制环路传感器，其中所述控制环路传感器是工艺控制环路的一部分。所述装置也包括被配置为至少收集传感器数据的第二集合的独立传感器，所述独立传感器不是工艺控制环路的一部分。所述装置还包括被配置为至少接收传感器数据的第一集合和传感器数据的第二集合中的至少一者的中心。所述装置还进一步包括与所述中心可通信地耦合的分析计算机，且所述分析计算机被配置为对传感器数据的第一集合和传感器数据的第二集合中的至少一者执行分析。

主权项

用于在等离子体处理系统的处理室内的衬底上执行方案的过程中实施自动的原位工艺控制模式的装置，包括：多个控制环路传感器，其被配置来至少在所述方案的所述执行过程中收集传感器数据的第一集合以便于监控设定点，其中所述多个控制环路传感器是工艺控制环路的一部分；成组的独立传感器，其被配置来至少收集传感器数据的第二集合，所述成组的独立传感器不是所述工艺控制环路的一部分；中心，其被配置来至少接收传感器数据的所述第一集合和传感器数据的所述第二集合中的至少一者；与所述中心可通信地耦合的分析计算机，其被配置为对传感器数据的所述第一集合和传感器数据的所述第二集合中的至少一者执行分析，其中所述分析计算机包括高速处理器用以分析大容量数据；以及工艺模块控制器，其被配置来至少基于方案设定点的给定集合执行所述方案。