模具、抗蚀剂积层体及其制造方法以及凹凸结构体

摘要

抗蚀剂积层体(30)具备无机基板(21)、设置在无机基板(21)的一侧主面上的第1抗蚀剂层(22)、和设置在第1抗蚀剂层(22)上的表面设置有凹凸结构(23a)的第2抗蚀剂层(23)。凹凸结构(23a)，转印后的残膜的厚度为50nm以下，模具的微细图样的凸部顶部宽度(lcv)与凹部开口宽度(lcc)的比例(lcv/lcc)在规定范围内，模具的微细图样的凹部体积(Vcm)与第2抗蚀剂层(23)的体积(Vr2)的比例(Vr2/Vcm)在规定范围内。无机基板(21)上可以容易地形成具有薄而且均等的残膜的抗蚀剂掩模(25)。

主权项

一种模具，其为表面的一部分或全部表面上具备微细图样的模具，其特征在于，所述微细图样，凸部顶部宽度lcv和凹部开口宽度lcc的比例(lcv/lcc)与所述微细图样的单元面积Scm的区域下存在的开口部面积Sh和所述单元面积Scm的比例(Sh/Scm)满足下述式(1)，同时所述比例(Sh/Scm)满足下述式(2)，所述比例(lcv/lcc)满足下述式(3)，并且所述微细图样的高度H满足下述式(4)，[数1]式(1)$\sqrt{0.5/(\mathrm{Sh}/\mathrm{Scm})}-1\le \mathrm{lcv}/\mathrm{lcc}\le \sqrt{1.1(\mathrm{Sh}/\mathrm{Scm})}-1$式(2)0.23<(Sh/Scm)≦0.99式(3)0.01≦(lcv/lcc)<1.0式(4)50nm≦H≦1500nm。