晶圆背面清洗装置

摘要

本实用新型公开一种晶圆背面清洗装置，通过对吸附装置的结构设计，在进行晶圆背面清洗时，可将晶圆背面的污染颗粒牢固的吸附于吸附管上，并可多次反复进行确保晶圆背面不同尺寸的污染颗粒被吸附。进而避免了污染颗粒由于受静电力的影响，无法通过有机溶剂完全有效去除，导致在使用光刻机进行曝光定义电路图形时，晶圆会产生局部区域的失焦，使得图形定义不完整而造成缺陷的情况，降低了晶圆的曝光失焦，提高了晶圆清洗的效率。

主权项

一种晶圆背面清洗装置，其特征在于，包括：驱动装置、吸附装置及支撑杆； 所述吸附装置设置于所述驱动装置上； 所述支撑杆设置于所述驱动装置上并贯穿所述吸附装置。