一种低污染机械抛光液

摘要

本发明公开了一种低污染机械抛光液，其特征在于，包括下列重量份数的物质：硼酸盐11-24份，氧化铈25-34份，过氧化苯甲酰11-12份，次氯酸10-20份，硫磺3.5-7份，氯化石蜡11-17份，氮化硼3.2-5.1份，邻苯二甲酸二辛酯5-8份，铜离子封闭剂14-32份，氯化钴6-11份，高速润滑油3-7份，磷酸二铵3.5-7.6份，纳米碳酸钙2.4-6.1份，硅酸酯3-15份。本发明可抑制低介电材料的抛光速率，而对铜和二氧化硅的去除速率影响不大，同时可减少被抛光材料的表面污染物。

主权项

一种低污染机械抛光液，其特征在于，包括下列重量份数的物质：硼酸盐11‑24份，氧化铈25‑34份，过氧化苯甲酰11‑12份，次氯酸10‑20份，硫磺3.5‑7份，氯化石蜡11‑17份，氮化硼3.2‑5.1份，邻苯二甲酸二辛酯5‑8份，铜离子封闭剂14‑32份，氯化钴6‑11份，高速润滑油3‑7份， 磷酸二铵3.5‑7.6份，纳米碳酸钙2.4‑6.1份，硅酸酯3‑15份。