发明名称 基于激光还原图案化石墨烯电极的有机电致发光器件的制备方法
摘要 本发明属于光电子技术领域,具体涉及一种基于激光还原图案化石墨烯电极的有机电致发光器件及其制备方法。器件依次由衬底、作为引出电极的具有沟道结构的金电极、搭接在沟道两侧金电极上的微米量级图案化石墨烯电极、有机功能层和阴极组成,微米量级的图案化石墨烯电极采用激逐点扫描的激光直写加工系统制备。得到的石墨烯电极的表面粗糙度较低,表面较平整,基于该电极制备的底发射有机电致发光器件,发光均匀度较高。本发明打破了以往大面积器件的常规思路,将电极的面积缩小至微米量级,并在其中引入图案,使得器件发光的区域为微缩化的图案结构,从而将有机光电器件和激光微纳加工巧妙地结合起来。
申请公布号 CN102646795B 申请公布日期 2014.11.26
申请号 CN201210119123.8 申请日期 2012.04.21
申请人 吉林大学 发明人 孙洪波;冯晶;陈路
分类号 H01L51/52(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I;C03C17/36(2006.01)I 主分类号 H01L51/52(2006.01)I
代理机构 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 代理人 张景林;刘喜生
主权项 一种基于激光还原图案化石墨烯电极的有机电致发光器件的制备方法,其特征在于:首先在清洗干净的盖玻片衬底上,采用金属沉积系统生长具有沟道结构的金电极作为引出电极,生长过程中系统的真空度控制在1×10<sup>‑3</sup>~3×10<sup>‑3</sup>Pa,通过铜丝掩膜在金电极中间位置留下宽度为50~120μm的沟道,金电极的厚度为15~20nm;然后将石墨烯氧化物的悬浮液旋涂于金电极之上,将金电极及其中间位置的沟道完全覆盖,旋涂转速为1000~3000rpm,旋涂时间为15~20s,石墨烯氧化物的厚度为80~100nm,将旋涂好石墨烯氧化物的衬底放入真空烘箱中,在35~40℃的真空环境下烘干,时间为40~60min;接着采用逐点扫描的激光直写加工系统对石墨烯氧化物进行还原,还原的同时在石墨烯氧化物上制备出梯子型或领结型的图案化石墨烯电极,并使得石墨烯电极搭接在沟道两侧的金电极上,石墨烯电极厚度为15~30nm,横向长度为20~150μm,纵向长度为40~300μm;最后在多源有机分子气相沉积系统中,在石墨烯电极上依次生长空穴注入层、空穴传输层、发光层兼作电子传输层和阴极,从而制备得到图案化石墨烯作电极的有机电致发光器件。
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