发明名称 |
光栅及其制作方法、显示基板和显示装置 |
摘要 |
本发明提供了一种光栅及其制作方法、显示基板和显示装置,光栅包括:基底以及形成在所述基底上方的遮光层图案,所述基底包括交替分布的第一视场区域和第二视场区域,所述遮光层图案包括遮光区域和透光区域;在所述第一视场区域内和所述第二视场区域内,所述光栅均包括形成在所述基底上的脊状隆起结构,所述遮光层图案形成在所述脊状隆起结构上;且在所述第一视场区域内,脊状隆起结构的第一侧坡面上形成有透光区域,在所述第二视场区域内,脊状隆起结构的第二侧坡面上形成有透光区域;其中,第一侧与第二侧为相对的两侧。采用本发明提供的光栅的显示装置具有较小的厚度。 |
申请公布号 |
CN104166177A |
申请公布日期 |
2014.11.26 |
申请号 |
CN201410403901.5 |
申请日期 |
2014.08.15 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司 |
发明人 |
林家强 |
分类号 |
G02B5/18(2006.01)I;G02B27/22(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/18(2006.01)I |
代理机构 |
北京路浩知识产权代理有限公司 11002 |
代理人 |
李相雨 |
主权项 |
一种光栅,其特征在于,包括:基底以及形成在所述基底上方的遮光层图案,所述基底包括交替分布的第一视场区域和第二视场区域,所述遮光层图案包括遮光区域和透光区域;在所述第一视场区域内和所述第二视场区域内,所述光栅均包括形成在所述基底上的脊状隆起结构,所述遮光层图案形成在所述脊状隆起结构上;且在所述第一视场区域内,脊状隆起结构的第一侧坡面上形成有透光区域,在所述第二视场区域内,脊状隆起结构的第二侧坡面上形成有透光区域;其中,第一侧与第二侧为相对的两侧。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |