| 发明名称 | 偏振度降低装置、光源装置、光放大装置和喇曼放大用激励光源装置 | ||
| 摘要 | 偏振度降低装置(110)具有分离部(201)、硅迂回波导(115)、光路径(117、119)、合成部(202)和射出部(121)。分离部(201)将输入光分离成偏振方向相互正交的各光。硅迂回波导(115)迂回形成在硅基板(114)上，使由分离部(201)分离后的各光中的一方通过。光路径(117、119)的光路长度比迂回波导(115)短，使各光中的另一方通过。合成部(202)对通过迂回波导(115)后的光和通过光路径(117、119)后的光进行合成。射出部(121)射出由合成部(202)合成后的光。 | ||
| 申请公布号 | CN104169759A | 申请公布日期 | 2014.11.26 |
| 申请号 | CN201280071551.6 | 申请日期 | 2012.03.19 |
| 申请人 | 富士通株式会社 | 发明人 | 尾中美纪 |
| 分类号 | G02B6/00(2006.01)I;G02B6/122(2006.01)I;G02B27/28(2006.01)I | 主分类号 | G02B6/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 李辉;金玲 |
| 主权项 | 一种偏振度降低装置，其特征在于，该偏振度降低装置具有：分离部，其将输入光分离成偏振方向相互正交的各光；硅迂回波导，其迂回地形成在硅基板上，使由所述分离部分离后的各光中的一方通过；光路径，其光路长度比所述迂回波导短，使所述各光中的另一方通过；合成部，其对通过所述迂回波导后的光和通过所述光路径后的光进行合成；以及射出部，其射出由所述合成部合成后的光。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县川崎市 | ||