校正用掩模及校正方法

摘要

本发明提供一种校正用掩模及校正方法，能够容易地测定调整曝光装置的曝光位置的图像传感器的分辨率。本发明的校正用掩模及校正方法中，使光透过具有掩模部、玻璃面部和遮蔽线组的校正用掩模，接受除所述遮蔽线组外的透过的光，并从接受的光的上方转换图像信息，然后根据所述图像信息测定分辨率信息，其中，所述掩模部具有用于取得图像的图像取得窗，所述玻璃面部位于所述掩模部的下方侧，并由利用粘合层粘合在所述图像取得窗附近的玻璃材料构成，所述遮蔽线组为分别设置在所述图像取得窗及所述玻璃面部上的由遮蔽材料构成的遮蔽线。

主权项

一种校正用掩模，用于曝光装置，其特征在于，具有：掩模部，其具有用于取得图像的图像取得窗；玻璃面部，其位于所述掩模部的下方侧，并由通过粘合层粘合在所述图像取得窗附近的玻璃材料构成；遮蔽线组，其在所述图像取得窗及所述玻璃面部上分别设置由遮蔽材料构成的遮蔽线。