发明名称 一种以二氧化碲为基底的中短波红外增透膜
摘要 本专利公开了一种以二氧化碲为基底的中短波红外增透膜,该增透膜使用了硫化锌(ZnS)和氟化镱(YbF<sub>3</sub>)为不同折射率的膜层材料,使用离子源辅助沉积与合适的基底烘烤温度等特定工艺条件,在基底的两个表面分别沉积8层非规整的膜层。该增透膜元件可以使得在1.25~4.0微米(μm)区间具有良好的透光效果,平均透过率>95%。TeO<sub>2</sub>晶体是一种优质的声光晶体,广泛应用于声光调制器,该增透膜可以有效提高声光调制器的光学效率,在宽光谱应用方面呈现出明显优势。
申请公布号 CN203965648U 申请公布日期 2014.11.26
申请号 CN201420310973.0 申请日期 2014.06.12
申请人 中国科学院上海技术物理研究所 发明人 罗海瀚;刘定权;蔡清元;李耀鹏
分类号 G02B1/11(2006.01)I 主分类号 G02B1/11(2006.01)I
代理机构 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人 郭英
主权项 一种以二氧化碲为基底的中短波红外增透膜,其结构为:在基底的一面沉积正面膜系(1),在基底的另一面沉积反面膜系(3),其特征在于:a、所述的正面膜系(1)的膜系结构为:基底/0.314H0.025L1.961H0.078L0.496H0.257L0.258H0.894L/空气其中,H表示一个λ<sub>0</sub>/4光学厚度的ZnS膜层,L表示一个λ<sub>0</sub>/4光学厚度的YbF<sub>3</sub>膜层,λ<sub>0</sub>为中心波长,H与L前的数字为膜层的厚度比例系数;b、所述的反面膜系(3)的膜系结构为:基底/0.28H0.022L1.638H0.076L0.396H0.227L0.204H0.743L/空气其中,H表示一个λ<sub>0</sub>/4光学厚度的ZnS膜层,L表示一个λ<sub>0</sub>/4光学厚度的YbF<sub>3</sub>膜层,H与L前的数字为膜层的厚度比例系数。
地址 200083 上海市虹口区玉田路500号