| 摘要 |
Спосіб виготовлення фоточутливих гетероструктур на основі нарисованих графітових плівок включає рисування графітової плівки на розчинній підкладці. Потім переносять на гладку або наноструктуровану поверхню напівпровідникової підкладки і формують якісний оптичний контакт. |
