| 摘要 |
【課題】リソグラフィ装置によって基板のターゲット部分に送られる放射線量を測定できるようにする。【解決手段】放射ビームの断面にＥＵＶ放射ビームを付与してパターニングされたＥＵＶ放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを支持するように構築された支持構造と、パターニングされたＥＵＶ放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、を備え、支持構造には、一連の第２の反射部分と交互に配置された一連の第１の反射部分が設けられ、第２の反射部分の反射率が、第１の反射部分の反射率未満でありゼロより大きい、リソグラフィ装置である。【選択図】図７ |
