| 摘要 |
<p>In verschiedenen Ausführungsbeispielen wird ein Verfahren zum Herstellen einer optoelektronischen Baugruppe bereitgestellt. Die optoelektronische Baugruppe weist ein erstes optoelektronisches Bauelement (34) und mindestens ein zweites optoelektronisches Bauelement (36), das mit dem ersten optoelektronischen Bauelement (34) elektrisch parallel geschaltet ist, auf. Bei dem Verfahren wird eine erste elektrisch leitfähige Schicht (12) auf einem Substrat (10) ausgebildet. Eine zweite elektrisch leitfähige Schicht (14) wird auf der ersten elektrisch leitfähigen Schicht (12) ausgebildet. Ein erster Graben (22) und mehrere zweite Gräben (26) werden so ausgebildet, dass das Substrat (10) in dem ersten Graben (22) und in den zweiten Gräben (24) frei gelegt ist, dass der erste Graben (22) je einen Bauelementbereich (16) der optoelektronischen Bauelemente (34, 36) gegenüber je einem ersten Kontaktbereich (20) der optoelektronischen Bauelemente (34, 36) abtrennt und dass die zweiten Gräben (24) je einen der Bauelementbereiche (16) gegenüber je einem zweiten Kontaktbereichen (18) der optoelektronischen Bauelemente (34, 36) teilweise abtrennen, wobei Stege (25) zwischen den zweiten Gräben (24) die Bauelementbereiche (16) mit den entsprechenden zweiten Kontaktbereichen (18) elektrisch verbinden. Ein Isolatormaterial (26) derart strukturiert auf die zweite elektrisch leitfähige Schicht (14) und das Substrat (10) aufgebracht wird, dass der erste und die zweiten Gräben (22, 24) mit dem Isolatormaterial (26) gefüllt werden und die Stege (25) mit dem Isolatormaterial (26) bedeckt werden. Je eine optisch funktionelle Schicht (30) in den Bauelementbereichen (16) ausgebildet wird. Eine elektrisch leitfähige Elektrodenschicht (32) derart strukturiert auf die optisch funktionellen Schichten (30) und die ersten Kontaktbereiche (20) aufgebracht wird, dass die optisch funktionellen Schichten (30) mit den entsprechenden ersten Kontaktbereichen (20) elektrisch gekoppelt sind.</p> |
