Reinigungsverfahren und Vorrichtung mit Partikel Monitoring

摘要

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Reinigung von Bauteilen, insbesondere Komponenten von Projektionsbelichtungsanlagen, bei welchem das zu reinigende Bauteil (2) in einem Behälter (1) aufgenommen ist, in dem ein Fluid (3) zur Aufnahme und/oder zum Abtransport von Kontaminationen enthalten ist, wobei Partikel der Kontaminationen insbesondere hinsichtlich ihrer Bewegung im oder mit dem Fluid optisch erfasst werden.