发明名称 |
一种降低驱动电压的外延片,生长方法及LED结构 |
摘要 |
本申请公开了降低驱动电压的外延片,生长方法及LED结构,该外延片,其结构从下至上依次为:基板,GaN缓冲层,U型GaN层,n型GaN层,MQW发光层,p型AlGaN层,高温p型GaN层,所述的U型GaN层的厚度为U型GaN层形成平整表面时的厚度;所述的n型GaN层包括:掺杂Si的第一GaN层,在所述的第一GaN层上是掺杂Si的第二GaN层。本发明降低了驱动电压,将不掺杂的GaN层掺入Si或In元素,改变LED整体的电流扩展效果,使得N层、P层的阻值得到下降,从而降低驱动电压。 |
申请公布号 |
CN104157764A |
申请公布日期 |
2014.11.19 |
申请号 |
CN201410426072.2 |
申请日期 |
2014.08.27 |
申请人 |
湘能华磊光电股份有限公司 |
发明人 |
苏军 |
分类号 |
H01L33/14(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/14(2010.01)I |
代理机构 |
北京爱普纳杰专利代理事务所(特殊普通合伙) 11419 |
代理人 |
何自刚 |
主权项 |
一种降低驱动电压的外延片,其结构从下至上依次为:基板,GaN缓冲层,U型GaN层,n型GaN层,MQW发光层,p型AlGaN层,高温p型GaN层,其特征在于:所述的U型GaN层的厚度为U型GaN层形成平整表面时的厚度;所述的n型GaN层包括:掺杂Si的第一GaN层,在所述的第一GaN层上是掺杂Si的第二GaN层。 |
地址 |
423038 湖南省郴州市苏仙区白露塘镇有色金属产业园区 |