蚀刻速率测试控片的制作方法与重复利用方法

摘要

本发明提供一种蚀刻速率测试控片的制作方法与重复利用方法，该重复利用方法包括如下步骤：步骤10、提供一已使用过的蚀刻速率测试控片；步骤20、将光阻层(4)全部去除；步骤30、在非金属膜(3)上涂布另一光阻层(4’)，将曝光位置偏离所述已被蚀刻过的测试过孔(31)对该另一光阻层(4’)进行曝光；步骤40、测量未被所述另一光阻层(4’)覆盖的非金属膜(3)的厚度H1；步骤50、对未被另一光阻层(4’)覆盖的非金属膜(3)进行一定时间T的蚀刻，形成另一测试过孔(32)；步骤60、蚀刻完成后，测量位于另一测试过孔(32)下方的非金属膜(3)的厚度H2；并根据非金属膜(3)的厚度H1与H2、及蚀刻时间T计算蚀刻速率V。

主权项

一种蚀刻速率测试控片的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、提供一玻璃基板(1)，并在该玻璃基板(1)上形成金属层图形(2)；步骤2、在金属层图形(2)与玻璃基板(1)上沉积非金属膜(3)，该非金属膜(3)完全覆盖基板(1)；步骤3、在非金属膜(3)上涂布一光阻层(4)并进行曝光，将对应于非金属膜(3)欲形成测试过孔位置上的部分光阻层(4)曝掉，露出非金属膜(3)。