发明名称 浴足盆
摘要 本实用新型涉及一种浴足盆,包括盆体和温度控制装置,所述盆体内设有盆腔,所述盆腔设有放置足部的脚位,盆腔内设有加热元件,加热元件表面设有绝缘层,所述加热元件与温度控制装置电连接,加热元件为厚膜加热电路,厚膜加热电路至少设置在盆腔侧壁、脚位或盆腔底部任一个位置上;盆腔侧壁、脚位或盆腔底部至少有一位置设有导水管,在导水管管壁上设有厚膜加热电路;导水管连接有水泵,从而实现水循环;本实用新型的浴足盆具有体积小、加热效率高、保温效果好、安全性高和保健作用等优点。
申请公布号 CN203949351U 申请公布日期 2014.11.19
申请号 CN201320382735.6 申请日期 2013.06.28
申请人 黄伟聪 发明人 梁永健;黄伟聪
分类号 F24H1/20(2006.01)I;F24H9/18(2006.01)I;H05B3/82(2006.01)I 主分类号 F24H1/20(2006.01)I
代理机构 广州圣理华知识产权代理有限公司 44302 代理人 顿海舟;陈业胜
主权项 浴足盆,包括盆体和温度控制装置,所述盆体内设有盆腔,所述盆腔设有放置足部的脚位,盆腔内设有加热元件,加热元件表面设有绝缘层,所述加热元件与温度控制装置电连接,其特征在于:所述加热元件至少设置在盆腔侧壁、脚位或盆腔底部任一个位置上,所述加热元件为厚膜加热电路。 
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