| 发明名称 | 蚀刻液组合物以及蚀刻方法 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于提供下述蚀刻液组合物和蚀刻方法，其在对包括氧化铟系膜和金属系膜的层叠膜一并进行蚀刻时，在氧化铟系膜和金属系膜之间不会产生大的台阶，包含氧化铟系膜和金属系膜的细线的宽度较小，此外，可以直线性良好地进行蚀刻。本发明蚀刻液组合物的特征在于包含：高铁离子成分、氯化氢成分、以及选自下述通式(1)表示的化合物和碳数1～4的直链或支链状醇中的至少1种以上的化合物成分(式(1)中，R<sup>1</sup>、R<sup>3</sup>各自独立地表示氢或碳数1～4的直链或支链状烷基，R<sup>2</sup>表示碳数1～4的直链或支链状亚烷基，n表示1～3的数)。<img file="DDA0000560369580000011.GIF" wi="937" he="163" /> | ||
| 申请公布号 | CN104160486A | 申请公布日期 | 2014.11.19 |
| 申请号 | CN201280070725.7 | 申请日期 | 2012.12.25 |
| 申请人 | 株式会社ADEKA | 发明人 | 田口雄太;齐藤康太 |
| 分类号 | H01L21/308(2006.01)I;C23F1/16(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/308(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 吴宗颐 |
| 主权项 | 蚀刻液组合物，其用于对包括氧化铟系膜和金属系膜的层叠膜一并进行蚀刻，其由包含以下物质的水溶液形成，(A)高铁离子成分、(B)氯化氢成分、和(C)选自下述通式(1)表示的化合物和碳数1～4的直链或支链状醇的至少1种以上的化合物成分，<img file="FDA0000560369550000011.GIF" wi="942" he="175" />式(1)中，R<sup>1</sup>、R<sup>3</sup>各自独立地表示氢或碳数1～4的直链或支链状烷基，R<sup>2</sup>表示碳数1～4的直链或支链状亚烷基，n表示1～3的数。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||