发明名称 |
用于制造光学半导体模块的方法和模具 |
摘要 |
本发明涉及一种用于制造光学半导体模块的方法,其中,将一个具有至少一个光学有源元件的半导体基体(1)放置在一个引线框架(3,4)中,其中,建立所述半导体基体(1)和所述引线框架(3,4)之间的导电连接,然后,紧接着在一个模具(11,12)中对所述引线框架(3,4)和所述半导体基体(1)浇注,其中,设置至少一个覆盖体(14,15,18,21),它位于所述模具(11,13)的内壁和所述光学有源元件之间。 |
申请公布号 |
CN104149244A |
申请公布日期 |
2014.11.19 |
申请号 |
CN201410280133.9 |
申请日期 |
2006.03.03 |
申请人 |
ATMEL德国有限公司 |
发明人 |
迪特尔·穆茨;汉斯-彼得·魏布勒 |
分类号 |
B29C39/10(2006.01)I;B29C39/26(2006.01)I;H01L31/0203(2014.01)I |
主分类号 |
B29C39/10(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
侯鸣慧 |
主权项 |
用于制造光学半导体模块的方法,该方法包括:将具有至少一个光学有源元件的半导体基体(1)安装在引线框架(3,4)中,其中,建立所述半导体基体(1)和所述引线框架(3,4)之间的多个导电连接并且通过弹性力将所述半导体基体(1)弹性地保持在所述引线框架中,在浇注模具(11,12)中浇注所述引线框架(3,4)和所述半导体基体(1),在浇注过程中将至少一个覆盖体(14,15,18,21)压向所述半导体基体(1),所述至少一个覆盖体从所述浇注模具(11,13)的内壁延伸到所述光学有源元件处,其特征在于,所述至少一个覆盖体(14,15,18,21)产生接触力,该接触力逆着所述弹性力将所述半导体基体(1)回推一段距离,所述至少一个覆盖体(14,15,18,21)包括圆形的、槽状的端面(19),该端面具有边缘(20),该边缘平坦地环绕所述至少一个覆盖体(14,15,18,21)的周边并且构成锋利的边缘,所述锋利的边缘以浇注密封的方式与所述半导体基体(1)密封,所述圆形的、槽状的端面(19)和所述锋利的边缘(20)阻止通过毛细作用使浇注材料(5)引入到圆形的、槽状的端面(19)中。 |
地址 |
德国海尔布隆 |