发明名称 LED外延层结构、生长方法及具有该结构的LED芯片
摘要 本发明提供了一种LED外延层结构、生长方法及具有该结构的LED芯片,LED外延层结构,包括依次叠置的掺Si-N型GaN层、MQW层和P型AlGaN层,所述MQW层包括多个依次叠置的MQW单元,所述MQW单元包括叠置的In<sub>X</sub>Ga<sub>(1-X)</sub>N层和GaN层,由所述掺Si-N型GaN层向P型AlGaN层方向,各所述In<sub>X</sub>Ga<sub>(1-X)</sub>N层中的X由0.05~0.3匀速渐变至0.3~0.05。本发明提供的LED芯片从In组分渐变出发,通过调整多量子阱层中In组分分布的起伏,增加发光层准量子点的数目,提高电子和空穴波函数的交叠积分,提高电子和空穴的复合效率。
申请公布号 CN104157745A 申请公布日期 2014.11.19
申请号 CN201410376488.8 申请日期 2014.08.01
申请人 湘能华磊光电股份有限公司 发明人 林传强;戚运东;周佐华
分类号 H01L33/00(2010.01)I;H01L33/06(2010.01)I 主分类号 H01L33/00(2010.01)I
代理机构 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人 吴贵明
主权项 一种LED外延层结构,包括依次叠置的掺Si‑N型GaN层、MQW层和P型AlGaN层,所述MQW层包括多个依次叠置的MQW单元,所述MQW单元包括叠置的In<sub>X</sub>Ga<sub>(1‑X)</sub>N层和GaN层,其特征在于,由所述掺Si‑N型GaN层向P型AlGaN层方向,各所述In<sub>X</sub>Ga<sub>(1‑X)</sub>N层中的X由0.05~0.3匀速渐变至0.3~0.05。
地址 423038 湖南省郴州市苏仙区白露塘镇有色金属产业园区