发明名称 低温密封膜
摘要 本发明公开了多层结构以及用于该多层结构的方法,其中该多层结构包含芯层和密封层;该结构为共挤出、低温密封、双轴向取向的膜或片材;密封层具有70至100℃的密封起始温度;芯层和密封层的总厚度为20至60μm;并且密封层具有基于芯层和密封层的总厚度计10至20%的厚度。
申请公布号 CN104159733A 申请公布日期 2014.11.19
申请号 CN201280063368.1 申请日期 2012.12.20
申请人 纳幕尔杜邦公司 发明人 K.豪斯曼恩;Y.M.特劳赫特;J.希夫曼恩
分类号 B32B7/00(2006.01)I;B32B7/02(2006.01)I;B32B7/12(2006.01)I;B32B27/00(2006.01)I;B32B27/08(2006.01)I;B32B27/32(2006.01)I;B32B27/34(2006.01)I;B32B27/36(2006.01)I;B32B27/40(2006.01)I 主分类号 B32B7/00(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 邹雪梅;李炳爱
主权项 多层,其包含芯层和密封层或由芯层和密封层制得,其中所述多层为共挤出的、双轴向取向的膜或片材;所述芯层包含聚烯烃;所述密封层具有70至100℃的密封起始温度并且包含下列物质或由下列物质制得:至少一种离聚物、聚烯烃、聚酰胺、聚酯、聚氨酯、或它们中的两种或更多种的组合;所述芯层和所述密封层的总厚度为20至60μm;并且所述密封层具有基于所述芯层和密封层的总厚度计10至20%的厚度。
地址 美国特拉华州威尔明顿