| 发明名称 | 用于通过纹理蚀刻制造涂层物体的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于通过将至少一个透明导电金属氧化物层(3)沉积至基板(5)上以制造涂层物体(2)的方法，所述方法包括沉积(I)涂层(3)以及优选地随后对涂层(3)的温度处理(II)。在可选择的温度处理(II)之后，通过蚀刻方法统计地调整涂层(3)的表面纹理(8)。 | ||
| 申请公布号 | CN102473743B | 申请公布日期 | 2014.11.19 |
| 申请号 | CN201180002524.9 | 申请日期 | 2011.01.27 |
| 申请人 | 因特潘开发咨询有限责任公司 | 发明人 | 奥利弗·卡贝茨;洛塔尔·赫利策;汉斯约尔格·韦斯;迈克尔·普尔温斯 |
| 分类号 | H01L31/0236(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I | 主分类号 | H01L31/0236(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人 | 黄志华 |
| 主权项 | 一种用于通过将至少一个透明导电金属氧化物层(3)沉积(I)在基板(5)上来制造涂层物体(2)的方法，其中，通过蚀刻工艺(III)来统计地调节所述透明导电金属氧化物层(3)的表面纹理(3a)，其特征在于，在所述蚀刻之前，利用络合物形成剂在所述透明导电金属氧化物层(3)上原位产生掩膜。 | ||
| 地址 | 德国劳恩福特 | ||