发明名称 |
克服短沟道效应提升频率的局部SOI LDMOS器件 |
摘要 |
本发明公开了一种克服短沟道效应提升频率的局部超薄SOI LDMOS器件,属于半导体器件领域。包括半导体衬底1、沟道区2、漂移区3、源区4、漏区5、栅氧6、场氧7、栅8、沟道衬底重掺杂区9、BOX层18、侧墙19、源极扩展区20,其中漂移区3为横向变掺杂结构,其特征在于,所述BOX层靠近漂移区一端沿漂移区宽度方向开有通槽,所述BOX层18位于沟道的正下方、或者位于沟道和部分源区的正下方、或者位于沟道和源区的正下方,以保证击穿电压的同时提升器件的频率特性和驱动能力。本发明有效抑制了短沟道效应,在保证击穿电压的同时提升频率特性和驱动能力。 |
申请公布号 |
CN104157692A |
申请公布日期 |
2014.11.19 |
申请号 |
CN201410407304.X |
申请日期 |
2014.08.18 |
申请人 |
电子科技大学 |
发明人 |
王向展;邹淅;张易;黄建国;赵迪;于奇;刘洋 |
分类号 |
H01L29/78(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01)I |
代理机构 |
电子科技大学专利中心 51203 |
代理人 |
李明光 |
主权项 |
一种克服短沟道效应提升频率的局部超薄SOI LDMOS器件,包括半导体衬底(1)、沟道区(2)、漂移区(3)、源区(4)、漏区(5)、栅氧(6)、场氧(7)、栅(8)、沟道衬底重掺杂区(9)、BOX层(18)、侧墙(19)、源极扩展区(20),漂移区(3)采用横向变掺杂结构,其特征在于,所述BOX层(18)靠近漂移区一端沿漂移区宽度方向开有通槽,所述BOX层(18)位于沟道的正下方、或者位于沟道和部分源区的正下方、或者位于沟道和源区的正下方。 |
地址 |
611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号 |