| 发明名称 | 一种阻隔膜层、具其的光电器件及光电器件的制作方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种阻隔膜层、具其的光电器件及光电器件的制作方法，涉及电子器件领域，解决了现有的封装膜层封装效果不佳的问题。一种阻隔膜层，形成所述阻隔膜层的材料包括拓扑绝缘体，所述阻隔膜层在图案化的基底表面形成。 | ||
| 申请公布号 | CN104157705A | 申请公布日期 | 2014.11.19 |
| 申请号 | CN201410381466.0 | 申请日期 | 2014.08.05 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 卢永春;乔勇;程鸿飞;先建波 |
| 分类号 | H01L31/02(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I;H01L51/52(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I | 主分类号 | H01L31/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种阻隔膜层，其特征在于，形成所述阻隔膜层的材料包括拓扑绝缘体，所述阻隔膜层在图案化的基底表面形成。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||