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发明名称
低減されたデブリ生成を有するレーザ生成プラズマEUV源
摘要
極紫外線(EUV)光を生成するための方法および装置が開示される。この方法は第1レーザビームを利用してターゲット材を非熱的にアブレーションすることを含み得る。第1レーザビームは、非熱的な方法でターゲット材の一部を放出させ、それによりプルームを形成するよう構成され得る。この方法は、第2レーザビームを利用してプルームを照射し、それによりEUV放射のための高温プラズマを生成することをさらに含み得る。
申请公布号
JP2014530451(A)
申请公布日期
2014.11.17
申请号
JP20140529865
申请日期
2012.09.06
申请人
ケーエルエー−テンカー コーポレイション
发明人
デルガド ギルダルド;ワック ダニエル
分类号
H05G2/00;H05H1/24
主分类号
H05G2/00
代理机构
代理人
主权项
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