| 摘要 |
本発明は、約１０ｎｍのオーダーの限界寸法を有する放射によるリソグラフィ方法に適用できる。本発明の方法は、線量調整および幾何学的形状の補正の同時最適化により近接効果の補正を行うことを可能にする。従って、エッチング対象のパターンの逆畳み込みが、同時確率分布により放射と樹脂被覆支持部との相互作用をモデル化する反復プロシージャにより実行される。有利には、支持部露光ツールが成形ビーム方式である場合、エッチング対象のパターンはコントラストのあるレベルに分割され、次いで逆畳み込み画像がベクトル化されて露光ステップを実行する前に細分化される。有利な実施形態において、本発明の方法は、マルチパスセル投影法で露光される少なくとも２個の文字セルに適用される。 |
