エッジ終端エレメントのための凹部を用いるエッジ終端構造

摘要

複数の同心のガード・リングなどのような、エッジ終端構造のエレメントは、ドリフト層における有効にドープされた領域である。それらのドープされた領域の深さを増加させるために、個々の凹部を、エッジ終端構造のエレメントが形成されるドリフト層の表面に形成することができる。ドリフト層に凹部が形成されると、凹部のあたりおよび底部におけるそれらの範囲はドープされて、個々のエッジ終端エレメントが形成される。