图案形成方法、电子元件及其制造方法;PATTERN FORMING METHOD, ELECTRONIC DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF

摘要

本发明的课题在于提供一种于形成微细且纵横比高的图案时亦抑制图案的倒塌或剥离的图案形成方法、包含所述图案形成方法的电子元件的制造方法、及藉由所述制造方法所制造的电子元件。本发明的图案形成方法包括以下步骤：密接补助层形成步骤，于基板上形成具有聚合性基、且波长193 nm的光的透过率为80%以上的密接补助层；抗蚀剂膜形成步骤，于所述密接补助层上涂布感放射线性树脂组成物，形成抗蚀剂膜；曝光步骤，对所述抗蚀剂膜进行曝光；以及显影步骤，对所述经曝光的抗蚀剂膜进行显影，形成图案。