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发明名称
高处理量扫描致偏器及其制造之方法;HIGH THROUGHPUT SCAN DEFLECTOR AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF
摘要
本文描述磁致偏器组件,该磁致偏器组件经设置用于扫描一次电子束且为晶圆成像系统提供升级套组。该组件包括至少一个磁致偏器,该磁致偏器用于在一个方向扫描晶圆上之束,其中该至少一个磁致偏器包含至少两个线圈,该至少两个线圈形成该至少两个线圈对,其中该至少两个线圈中匝数为8或更少,且其中线圈形成导线或线圈形成导体之横截面的最大尺寸为0.2 mm或更少。
申请公布号
TW201443966
申请公布日期
2014.11.16
申请号
TW103109127
申请日期
2014.03.13
申请人
ICT积体电路测试股份有限公司
发明人
艾达米克派维尔
分类号
H01J37/147(2006.01);H01J37/28(2006.01)
主分类号
H01J37/147(2006.01)
代理机构
代理人
<name>蔡坤财</name><name>李世章</name>
主权项
地址
德国
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