发明名称 |
含有Co或Fe之溅镀靶 |
摘要 |
本发明为一种溅镀靶,该溅镀靶系由非磁性材粒子分散于含有Co或Fe之磁性材中的材料构成的烧结体溅镀靶,其特征在于:于该靶中之研磨面所观察到的组织,系由平均粒径1.8μm以下之非磁性材粒子与分散有该非磁性材粒子之含有Co或Fe的金属相及金属粒构成,当以位于该非磁性材粒子外缘上任意2点之距离的最大值为最大径,以平行之2条直线夹持该粒子时2直线间之距离的最小值为最小径之情形时,其最大径与最小径之差在0.7μm以下的非磁性材粒子占该靶中之研磨面所观察到之组织内的非磁性材粒子的60%以上,且,当以位于该金属粒外缘上任意2点之距离的最大值为最大径,以平行之2条直线夹持该金属粒时2直线间之距离的最小值为最小径之情形时,其最大径与最小径之和在30μm以上的金属粒,于1mm 2 视野内,平均存在1个以上,可抑制因非磁性材料造成之异常放电(为溅镀时产生颗粒之原因)。 |
申请公布号 |
TW201443262 |
申请公布日期 |
2014.11.16 |
申请号 |
TW103103460 |
申请日期 |
2014.01.29 |
申请人 |
JX日鑛日石金属股份有限公司; METALS CORPORATION |
发明人 |
荒川笃俊;高见英生;中村佑一郎 |
分类号 |
C23C14/34(2006.01);C23C14/06(2006.01);C22C1/05(2006.01);C22C19/07(2006.01);B22F1/00(2006.01);B22F3/14(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/34(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
<name>阎启泰</name><name>林景郁</name> |
主权项 |
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地址 |
日本 |