发明名称 光阻膜形成装置及其方法、导电膜形成及电路形成装置及其方法、电磁波遮罩形成装置及其方法、短波长高透过率绝缘膜之成膜装置及其方法、萤光体之成膜装置及其方法、微量材料合成装置及其方法、树脂模封装置、树脂模封方法、薄膜形成装置、有机EL元件、凸块形成装置及其方法、配线形成装置及其方法、以及配线构造体
摘要 提供一种使用有能够在工件上均一地形成薄的薄膜之静电喷雾装置的光阻膜形成装置。光阻膜形成装置(100),系为藉由静电喷雾而在基板上形成光阻膜(108)之光阻膜形成装置,其特征为,具备有:藉由被施加既定之电压,而将成为光阻膜(108)之原料的液剂之粒子(131)朝向具有阶差部(105a)之基板(105)进行喷雾之喷嘴(102);和使基板(105)或喷嘴(102)作相对性移动之驱动手段(111);和以使用液剂之粒子来在具有阶差部(105a)之基板(105)上形成光阻膜(108)的方式而进行控制之控制手段(110)。
申请公布号 TW201443975 申请公布日期 2014.11.16
申请号 TW102142089 申请日期 2013.11.19
申请人 山田尖端科技股份有限公司 发明人 小林一彦;须田圭佑
分类号 H01L21/027(2006.01);B05B5/025(2006.01);H01L23/498(2006.01);H01L21/60(2006.01);H05K3/10(2006.01) 主分类号 H01L21/027(2006.01)
代理机构 代理人 <name>林志刚</name>
主权项
地址 日本